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          用于等離子體化學氣相沉積裝置的控制系統

            摘要:本實用新型涉及工控機控制技術,公開了一種用于等離子體化學氣相沉積裝置的控制系統,包括上位機和多個下位工控機,上位機和下位工控機之間通過交換機連接;上位機與送料裝置相連,控制送料裝置是否出料及出料量;下位工控機與推拉舟和氣相沉積裝置內的環境控制儀器相連,控制推拉舟的運動和氣相沉積裝置內的環境參數。本實用新型采用一臺帶顯示器的工控機作為上位機,通過交換機與多個不帶顯示器的下位工控機相連接,由上位機向下位工控機傳送控制數據,實現對被控制設備的控制操作,下位工控機將被控制設備的工作狀況實時反饋給上位機,由此實現數據交互和控制。該控制系統結構簡單,自動化能力強,操作方便,使用和維護成本低。
          • 專利類型實用新型
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人楊海燕;楊浩;李凡;朱麗;高麗穎;李補忠;鄭建宇;
          • 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2號樓2層
          • 申請號CN201120370676.1
          • 申請時間2011年09月29日
          • 申請公布號CN202272949U
          • 申請公布時間2012年06月13日
          • 分類號C23C16/52(2006.01)I;
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