摘要：本發明公開了一種填充環及流量控制系統，填充環包括由大圓柱體和小圓柱體構成的階梯狀圓柱體，階梯狀圓柱體內設有軸向通孔，大圓柱體的外端軸向切十字槽。流量控制系統包括主通道，主通道內設有分流器，主通道的后端裝有閥座，填充環的大圓柱體裝到主通道內，小圓柱體裝到閥座的通道內。填充環結構簡單、使用方便，并能有效的減少氣體擾動。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人李凌峰;楊晨光;魏欣;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
- 申請號CN201010570363.0
- 申請時間2010年11月26日
- 申請公布號CN102022401A
- 申請公布時間2011年04月20日
- 分類號F15D1/00(2006.01)I;G05D7/00(2006.01)I;
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