摘要：本實用新型提供一種霧化清洗裝置，包括冷卻結構、諧振霧化結構和氣動霧化結構，所述諧振霧化結構固定于所述氣動霧化結構之上，所述冷卻結構固定于所述諧振霧化結構之上，所述諧振霧化結構包括換能器和諧振器，所述諧振器上設有排液孔，所述氣動霧化結構上開有第二進液孔、第二進氣孔和霧化噴射口，所述排液孔與所述第二進液孔相連，所述第二進液孔與所述霧化噴射口連通，所述第二進氣孔和所述霧化噴射口連通。本實用新型的霧化清洗裝置結構簡單，集成度高，實現了噴射超微霧化液滴，工藝易實現，克服單純的霧化機制產生大尺寸液滴或是噴射流，對65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴重損傷的問題。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人劉效巖;吳儀;初國超;王浩;
- 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請號CN201320053203.8
- 申請時間2013年01月30日
- 申請公布號CN203124323U
- 申請公布時間2013年08月14日
- 分類號B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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