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          霧化清洗裝置

            摘要:本實用新型提供一種霧化清洗裝置,包括冷卻結構、諧振霧化結構和氣動霧化結構,所述諧振霧化結構固定于所述氣動霧化結構之上,所述冷卻結構固定于所述諧振霧化結構之上,所述諧振霧化結構包括換能器和諧振器,所述諧振器上設有排液孔,所述氣動霧化結構上開有第二進液孔、第二進氣孔和霧化噴射口,所述排液孔與所述第二進液孔相連,所述第二進液孔與所述霧化噴射口連通,所述第二進氣孔和所述霧化噴射口連通。本實用新型的霧化清洗裝置結構簡單,集成度高,實現了噴射超微霧化液滴,工藝易實現,克服單純的霧化機制產生大尺寸液滴或是噴射流,對65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴重損傷的問題。
          • 專利類型實用新型
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人劉效巖;吳儀;初國超;王浩;
          • 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
          • 申請號CN201320053203.8
          • 申請時間2013年01月30日
          • 申請公布號CN203124323U
          • 申請公布時間2013年08月14日
          • 分類號B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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