摘要：本發明提供一種LPCVD工藝生產環境的控制方法，包括：步驟S1，所述溫度傳感器采集所述反應腔室內的溫度信息、所述真空度傳感器采集所述反應腔室內的真空度信息；步驟S2，所述反饋控制裝置獲得所述溫度信息和真空度信息，并根據所述溫度信息和真空度信息計算得出反饋控制增益參數；步驟S3，所述反饋控制裝置根據所述溫度信息和對應的反饋控制增益參數生成溫度控制信號，根據所述真空度信息和對應的反饋控制增益參數生成真空度控制信號，并發送至所述溫度調節裝置和真空度調節裝置；步驟S4，所述溫度調節裝置根據所述溫度控制信號調節所述反應腔室內的溫度；所述真空度調節裝置根據所述真空度控制信號調節所述反應腔室內的真空度。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人王峰;程朝陽;張芳;張海輪;
- 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請號CN201310298738.6
- 申請時間2013年07月16日
- 申請公布號CN103397312A
- 申請公布時間2013年11月20日
- 分類號C23C16/52(2006.01)I;
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