<acronym id="pokdi"><strong id="pokdi"></strong></acronym>
      <acronym id="pokdi"><label id="pokdi"><xmp id="pokdi"></xmp></label></acronym>

      <td id="pokdi"><ruby id="pokdi"></ruby></td>
      <td id="pokdi"><option id="pokdi"></option></td>
      <td id="pokdi"></td>

        1. 首頁
        2. 裝備資訊
        3. 熱點專題
        4. 人物訪談
        5. 政府采購
        6. 產品庫
        7. 求購庫
        8. 企業庫
        9. 品牌排行
        10. 院校庫
        11. 案例·技術
        12. 會展信息
        13. 教育裝備采購網首頁 > 知識產權 > 專利 > CN203265197U

          一種自清洗腔體

            摘要:本實用新型涉及硅片清洗領域,尤其涉及一種自清洗腔體,其包括殼體、噴水嘴和排液口。其中,噴水嘴安裝在殼體外部,排液口在殼體底部。噴水嘴有上下兩排,其上下位置面對面正對。進液軟管的一端在噴水嘴內,沒有伸入噴水嘴的部分安裝有調壓閥,調壓閥之前有至少一個手閥或氣動閥,殼體上部有排氣管。本實用新型通過調壓閥控制進液口的流量,來達到不同的清潔效果;殼體上下側均設置噴嘴,可以實現均勻清洗;增加排氣孔,排出污染空氣,減少腔體的污染程度,提高硅片的清洗效率,降低自清洗頻率;增加排液口,清洗完成后的廢液可以直接通過排液口排出。最終實現腔體的不拆卸清洗。
          • 專利類型實用新型
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人張享倩;王波雷;姬丹丹;李偉;王浩;
          • 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
          • 申請號CN201320150997.X
          • 申請時間2013年03月29日
          • 申請公布號CN203265197U
          • 申請公布時間2013年11月06日
          • 分類號B08B13/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;
          99久久国产自偷自偷免费一区|91久久精品无码一区|国语自产精品视频在线区|伊人久久大香线蕉av综合

            <acronym id="pokdi"><strong id="pokdi"></strong></acronym>
              <acronym id="pokdi"><label id="pokdi"><xmp id="pokdi"></xmp></label></acronym>

              <td id="pokdi"><ruby id="pokdi"></ruby></td>
              <td id="pokdi"><option id="pokdi"></option></td>
              <td id="pokdi"></td>