摘要：本發明公開了一種圖形化襯底及其制備方法、外延片制作方法及外延片，屬于發光二極管領域。所述方法包括：在藍寶石襯底上沉積二氧化硅層；采用光刻膠掩膜及刻蝕工藝刻蝕二氧化硅層直至裸露出部分藍寶石襯底，形成多個凸起；在藍寶石襯底設置凸起的表面濺射氮化鋁層；除去凸起頂面的光刻膠掩膜以及光刻膠掩膜上濺射的氮化鋁；采用濕法腐蝕法除去凸起。當在圖形化襯底上生長氮化鎵層時，空心結構成為空氣間隙，氮化鎵材料折射率為2.5，氮化鋁材料折射率為2.0，空氣作為最低折射率的材料，使光在氮化鎵、氮化鋁、空氣藍寶石襯底界面處不易被透射更易被反射，可產生更高的反射率，從而提高了發光二極管的光提取效率。
- 專利類型發明專利
- 申請人華燦光電股份有限公司;
- 發明人桂宇暢;張建寶;
- 地址430223 湖北省武漢市東湖新技術開發區濱湖路8號
- 申請號CN201410411366.8
- 申請時間2014年08月20日
- 申請公布號CN104332541A
- 申請公布時間2015年02月04日
- 分類號H01L33/20(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L21/02(2006.01)I;
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