摘要：本實用新型涉及半導體晶圓制造領域，公開了一種超潔凈微環境裝置，包括裝置本體、風機、氣孔層和過濾板，所述氣孔層上布置有多個氣孔，所述風機設置在所述裝置本體內部的側壁上，所述氣孔層設置在所述裝置本體的內部，所述過濾板設置在所述裝置本體的底面上。本實用新型將風機設置于裝置本體的側面，使得進風方式為側面進風，因此裝置適合于在雙層或多層工藝腔室半導體晶圓制造設備中使用；通過特殊的氣孔形狀及排布設計，使得裝置能夠為半導體晶圓制造設備提供穩定、均勻的垂直層流。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人趙宏宇;吳儀;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2號樓2層
- 申請號CN201120382492.7
- 申請時間2011年10月10日
- 申請公布號CN202363428U
- 申請公布時間2012年08月01日
- 分類號H01L21/67(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I;B01D46/42(2006.01)I;
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