摘要：本發明公開了一種半導體晶圓制造裝置，涉及半導體晶圓制造技術領域，包括：至少兩個機械手(1)、至少一套化學與氣源分配系統(2)和多個風循環過濾系統(3)，所述風循環過濾系統(3)分為前部區域、中部區域和側部區域，所述前部區域、中部區域和側部區域分別由使各區域達到均一風量和壓力的同一電機控制。本發明通過對風循環過濾系統進行分區域控制，能夠提高晶圓制造裝置內部的潔凈等級；其次，本發明使用多自由度雙臂機械手，具有更高的傳片效率；另外，本發明采用穩定均一的化學氣體、液體分配系統，從而可在每單位面積中有更高的產品良率產出。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人趙宏宇;張曉紅;裴立坤;張豹;王銳廷;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2號樓2層
- 申請號CN201110441994.7
- 申請時間2011年12月26日
- 申請公布號CN103177985A
- 申請公布時間2013年06月26日
- 分類號H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;
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