摘要：本發明公開了一種用于半導體制造的氧化爐保溫桶及氧化方法，該保溫桶包括底座、固定于底座上的限位柱、至少一片鰭片，該鰭片被限位柱阻擋以防止掉落并平行層疊于底座上，該鰭片之間具有一間隙。本發明的保溫桶具有可拆卸式的一片或多片鰭片，通過支柱安裝在保溫桶的底座上，根據不同濕氧工藝溫度需求來調整鰭片的數量，能有效防止低工藝溫度時水蒸汽形成的水珠對工藝和器件產生的不良影響，同時避免高工藝溫度對工藝門密封部件造成的損傷。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人林偉華;蘭天;宋辰龍;王兵;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
- 申請號CN201410117707.0
- 申請時間2014年03月27日
- 申請公布號CN103871940A
- 申請公布時間2014年06月18日
- 分類號H01L21/673(2006.01)I;
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