摘要：本發明公開了一種用于300mm硅片氧化處理的立式氧化爐石英舟旋轉裝置，設有步進電機，石英舟的下方設有SiC轉盤，在該SiC盤的底部中央設有固定軸，固定軸的下端設有帶輪，該帶輪通過傳動帶與步進電機傳動連接；在固定軸的下部設有舟旋轉定位裝置，上部設有密封腔，密封腔設有進出氣管，SiC轉盤的下面設有帶水冷卻腔爐門，爐門底部固定設有軸罩，在軸罩的底端與SiC轉盤的固定軸之間設有密封環；在爐門下面設有數個緩沖器，在爐門四周下面還設有密封擋板。本發明適用于用于300mm硅片氧化處理的立式氧化爐石英舟的旋轉裝置，結構完善，控制靈活，水平、垂直位置控制精確。從而使硅片受熱均勻，提高了硅片膜厚均勻性。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人鐘華;趙星梅;董金衛;王喆;賽義德·賽迪;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
- 申請號CN200810240137.9
- 申請時間2008年12月17日
- 申請公布號CN101813410B
- 申請公布時間2012年11月14日
- 分類號H01L21/324(2006.01)I;
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