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          半導體清洗液管理裝置及方法

            摘要:本發明公開了一種半導體清洗液管理裝置,包括:儲液單元,用于儲存清洗液;濃度液位檢測單元,用于檢測所述儲液單元中清洗液的濃度及液位,并將檢測到的濃度數據及液位數據傳輸給所述控制單元;控制單元,用于根據所述濃度數據及液位數據生成相應的控制信號,并將所述控制信號發送給所述執行單元;執行單元,用于根據所述控制信號執行所述儲液單元的清洗液的排放、補充所述儲液單元的化學藥劑、補充所述儲液單元的水、更換所述儲液單元的清洗液、回收反應腔體的清洗液、以及供液給反應腔體的動作。本發明通過與反應腔體控制裝置的結合,實現了對清洗液進行自動管理,并實現了在沒有技術人員對清洗液進行管理的情況下,持續的進行清洗工藝。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人郭訓容;吳儀;裴立坤;昝威;
          • 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2號樓2層
          • 申請號CN201110033084.5
          • 申請時間2011年01月30日
          • 申請公布號CN102208327B
          • 申請公布時間2012年11月14日
          • 分類號H01L21/00(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I;
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