摘要：本發明公開了一種半導體清洗液管理裝置，包括：儲液單元，用于儲存清洗液；濃度液位檢測單元，用于檢測所述儲液單元中清洗液的濃度及液位，并將檢測到的濃度數據及液位數據傳輸給所述控制單元；控制單元，用于根據所述濃度數據及液位數據生成相應的控制信號，并將所述控制信號發送給所述執行單元；執行單元，用于根據所述控制信號執行所述儲液單元的清洗液的排放、補充所述儲液單元的化學藥劑、補充所述儲液單元的水、更換所述儲液單元的清洗液、回收反應腔體的清洗液、以及供液給反應腔體的動作。本發明通過與反應腔體控制裝置的結合，實現了對清洗液進行自動管理，并實現了在沒有技術人員對清洗液進行管理的情況下，持續的進行清洗工藝。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人郭訓容;吳儀;裴立坤;昝威;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2號樓2層
- 申請號CN201110033084.5
- 申請時間2011年01月30日
- 申請公布號CN102208327B
- 申請公布時間2012年11月14日
- 分類號H01L21/00(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I;
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