摘要：本實用新型涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種雙通道類金剛石碳膜沉積裝置，真空室的上蓋與真空室的室底相對，真空室的側壁連接上蓋和室底；陽極靶和陰極靶設置在真空室的內部，陽極靶與陰極靶相對設置，陰極靶位于真空室的室底與陽極靶之間；驅動機構穿過室底與陰極靶相連；第一連接通道和第二連接通道在并聯后，串聯在抽真空裝置和真空室之間，連通抽真空裝置與真空室，第一連接通道的直徑為第二連接通道的直徑的3倍；第一調節閥設置在第一連接通道與真空室連通處；第二調節閥設置在第二連接通道與真空室連通處。本申請通過在抽真空裝置與真空室之間設置兩個連接通道，通過對兩個連接通道的開閉程度的調節，能夠精確的控制沉積裝置內部氣流的均勻性。
- 專利類型實用新型
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發明人向勇;傅紹英;徐子明;楊小軍;孫力;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業港（雙流園區）東海路六段680號
- 申請號CN201620267625.9
- 申請時間2016年03月31日
- 申請公布號CN205529027U
- 申請公布時間2016年08月31日
- 分類號C23C16/26(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;
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