摘要：本發明公開了一種真空爐，包括固定在操作箱的側壁上的第一真空腔室、固定在操作箱的側壁上的第二真空腔室、用于蓋設第二真空腔室的腔蓋。第二真空腔室容置于所述第一真空腔室內部；在第二真空腔室的內部設置有載物臺，所述載物臺上放置工件；而在所述第二真空腔室的外壁覆蓋有密閉的加熱腔室，在所述加熱腔室內部設置有加熱組件，所述加熱組件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于對所述第二真空腔室進行加熱，此結構可將加熱組件和工件區分，進而避免加熱組件對工件的污染，提高工件的質量。
- 專利類型發明專利
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發明人向勇;傅紹英;楊小軍;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業港（雙流園區）東海路六段680號
- 申請號CN201610380708.3
- 申請時間2016年05月31日
- 申請公布號CN105890345A
- 申請公布時間2016年08月24日
- 分類號F27B5/05(2006.01)I;F27B5/02(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27B5/16(2006.01)I;
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