摘要：本實用新型涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種類金剛石碳膜沉積裝置，真空室的上蓋與真空室的室底相對，真空室的側壁連接上蓋和室底，以形成一腔室；側壁上開設有一開口；門體與真空室連接，用于蓋設于開口；電場平衡機構可拆卸地連接在開口處的側壁上，用于補全開口，電場平衡機構呈板狀，且，電場平衡機構的尺寸大于等于開口的尺寸；陽極靶和陰極靶設置在真空室的內部，且，陽極靶與陰極靶相對設置，陰極靶位于真空室的室底與陽極靶之間；驅動機構穿過室底與陰極靶相連；抽真空裝置與真空室連通；充氣引入座設置在室底。本申請通過在真空室側壁上的開口處增設電場平衡機構，從而能夠保證真空室內的電場平衡。
- 專利類型實用新型
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發明人向勇;傅紹英;徐子明;楊小軍;閆宗楷;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業港（雙流園區）東海路六段680號
- 申請號CN201620266888.8
- 申請時間2016年03月31日
- 申請公布號CN205529025U
- 申請公布時間2016年08月31日
- 分類號C23C16/26(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;
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