摘要:本實用新型提供一種放電弧斑滿布靶面的真空陰極電弧源,包括一平板靶材,平板靶材底面設有一對應的靶座組件,平板靶材與靶座組件用緊固件緊密貼合連接;靶座組件由冷卻水道構件和磁路構件上下層疊組成;冷卻水道構件為包括冷卻水道金屬上蓋薄板及冷卻水道金屬底板的扁形冷卻水道并設有進、出水口;磁路構件由磁極分別為上、下端面的多個小圓柱形磁體同極同向(相同磁極朝向相同)豎直排列在一靶座底板上組成。本實用新型具有如下優點:放電面積大大增加,允許增加若干倍靶電流,有利于大幅度提高沉積速率;分散電弧放電幾乎在整個靶面上放電,令靶面燒蝕更均勻,提高靶材利用率;有利于靶面導熱和水冷帯走熱量,有利于改善膜層質量。
- 專利類型實用新型
- 申請人東莞市匯成真空科技有限公司;
- 發明人李志榮;羅志明;李志方;袁鎮海;
- 地址523838 廣東省東莞市大嶺山鎮顏屋村第四工業區
- 申請號CN201520554132.9
- 申請時間2015年07月28日
- 申請公布號CN204825032U
- 申請公布時間2015年12月02日
- 分類號C23C14/32(2006.01)I;