摘要：本實用新型公開一種用于真空鍍膜設備的真空閥，屬真空鍍膜設備的控制閥領域。該真空閥包括：閥體、氣缸和閥蓋；閥體內為中空結構，閥體上設有真空容器連接口、低真空泵連接口和高真空泵連接口，真空容器連接口經閥體內與低真空泵連接口、高真空泵連接口連通；閥體上設置氣缸，氣缸與閥體連接處密封連接；氣缸的氣缸軸伸入到閥體內，氣缸軸設有閥蓋，閥蓋朝向高真空泵連接口，能在氣缸軸驅動下關閉或打開高真空泵連接口。該真空閥可同時連接低真空泵和高真空泵，可控制所連接的高真空泵通路的開通與關閉，以高真空泵來增大抽真空的抽速，從而對閥體所連接的真空鍍膜設備的真空容器更快的抽真空，使其能更快的達到高真空狀態。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京北儀創新真空技術有限責任公司;
- 發明人王燕;侯榮華;
- 地址102600 北京市大興區大興工業開發區前高米店盛坊路儀器儀表基地
- 申請號CN201320287251.3
- 申請時間2013年05月23日
- 申請公布號CN203307431U
- 申請公布時間2013年11月27日
- 分類號C23C14/56(2006.01)I;
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