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          晶片背面清洗裝置

            摘要:本實用新型提供一種晶片背面清洗裝置包括晶片夾持部件、旋轉軸、晶片清洗部件和固定軸。晶片夾持部件用于夾持待清洗晶片;旋轉軸設置在所述晶片夾持部件下方并與所述晶片夾持部件固定連接;晶片清洗部件設置在待清洗晶片下方;固定軸設置在所述晶片清洗部件下方并與所述晶片清洗部件固定連接,且所述固定軸與所述旋轉軸同軸;其中,所述固定軸具有第一中空腔,所述第一中空腔內設置有用于傳輸晶片清洗劑的液體管道;所述晶片清洗部件上設置有液體噴頭以及與所述液體噴頭連通的液體通路,所述液體通路與所述液體管道連通,用于噴射晶片清洗劑清洗待清洗晶片。實現了對晶片背面的清洗,滿足了集成電路晶片清洗工藝的要求。
          • 專利類型實用新型
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人李偉;張豹;吳儀;王銳廷;王浩;
          • 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
          • 申請號CN201220345404.0
          • 申請時間2012年07月16日
          • 申請公布號CN202779014U
          • 申請公布時間2013年03月13日
          • 分類號B08B3/02(2006.01)I;
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