摘要：本實用新型提供一種噴霧粒度儀氣霧正壓保護裝置，屬于粒度分析儀器領域，其結構包括保護腔、管道和氣源，保護腔上設置有氣流進口和氣流出口，管道的一端和氣流進口相連接，管道的另一端和氣源相連接。使用時，將該裝置的保護腔安裝在噴霧粒度儀并使氣流出口處于正對鏡頭的方向，氣體從氣源經過管道，到達保護腔并充滿保護腔后氣流排出，實現對鏡頭的保護，避免氣霧接近甚至附著在鏡頭上。本實用新型設計合理、結構簡單、方便實用，應用在噴霧粒度儀上，在不增加現有儀器體積的前提下，增強了設備(尤其是鏡頭)對于氣霧的防護能力，對光路提供有效的保護。
- 專利類型實用新型
- 申請人濟南微納顆粒儀器股份有限公司;
- 發明人任中京;
- 地址250100 山東省濟南市高新區大學科技園北區F座東2單元
- 申請號CN201120267651.9
- 申請時間2011年07月26日
- 申請公布號CN202166592U
- 申請公布時間2012年03月14日
- 分類號G01N15/02(2006.01)I;
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