摘要：本實用新型提供一種真空鍍膜設備的真空室及真空鍍膜設備，包括：加熱源(1)、支柱(4)、多組傳輸機構與多塊隔板(10)；每組傳輸機構包括傳動軸(9)、兩個軸承座(8)與多個滾輪(5)，傳動軸(9)通過兩個軸承座(8)安裝于支柱(4)上，傳動軸(9)上間隔固定滾輪(5)，滾輪(5)上還固定有橡膠圈(6)；隔板(10)通過螺釘(3)固定于支柱(4)上，隔板(10)上對應橡膠圈(6)的位置開有方孔(11)；其特征在于，所述的隔板(10)上在兩傳輸機構間的位置設有凹槽(12)。有效解決了高溫下隔板變形的問題。節約了成本。保證了基片傳送系統的平穩運行以及鍍膜環境的穩定性，確保了膜層質量，有效提高了真空鍍膜設備的安全性和可靠性。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京北儀創新真空技術有限責任公司;
- 發明人劉潔雅;
- 地址102600 北京市大興區大興工業開發區前高米店盛坊路儀器儀表基地
- 申請號CN201120234915.0
- 申請時間2011年07月05日
- 申請公布號CN202148346U
- 申請公布時間2012年02月22日
- 分類號C23C14/00(2006.01)I;
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