摘要：一種用于化學氣相沉積(CVD)反應器的自定心晶片載體系統，其包括晶片載體，晶片載體包括邊緣。晶片載體至少部分地支承晶片以便進行CVD處理。旋轉管包括邊緣，邊緣在處理期間支承晶片載體。晶片載體的邊緣幾何結構和旋轉管的邊緣幾何結構經選擇在過程期間在所期望的過程溫度提供晶片載體的中心軸線與旋轉管的旋轉軸線的重合對準。
- 專利類型發明專利
- 申請人維易科精密儀器國際貿易(上海)有限公司;
- 發明人S·克里士南;A·I·古拉雷;張正宏;E·馬塞羅;
- 地址美國紐約
- 申請號CN201610457472.9
- 申請時間2016年06月22日
- 申請公布號CN106256929A
- 申請公布時間2016年12月28日
- 分類號C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I;
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