摘要：一種幅材基板原子層沉積系統，其包括：至少一個輥，所述至少一個輥將幅材基板的表面傳輸經過多個處理室。所述多個處理室包括第一前體反應室，所述第一前體反應室將幅材基板的表面暴露于第一前體氣體的期望的分壓力下，由此在幅材基板的表面上形成第一層。吹掃室利用吹掃氣體吹掃幅材基板的表面。真空室從幅材基板的表面除去氣體。第二前體反應室將幅材基板的表面暴露于第二前體氣體的期望的分壓力下，由此在幅材基板的表面上形成第二層。
- 專利類型PCT發明
- 申請人維易科精密儀器國際貿易(上海)有限公司;
- 發明人P·斯費爾拉佐;
- 地址美國紐約
- 申請號CN201080015287.5
- 申請時間2010年03月16日
- 申請公布號CN102365712A
- 申請公布時間2012年02月29日
- 分類號H01L21/205(2006.01)I;
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