摘要：本發明涉及一種采用兩步法在Nb基超高溫合金表面制備抗氧化Zr?Y改性硅化物滲層的制備方法，首先采用磁控濺射的方法在Nb基超高溫合金表面沉積不同厚度的Zr膜，然后采用Si?Y擴散共滲的方法在沉積Zr膜后的試樣表面制備抗氧化Zr?Y改性硅化物滲層。本發明解決了Nb基多元超高溫合金高溫抗性能差的技術難題，能夠獲得均勻、致密，Zr含量可控且與基體結合緊密的Zr?Y改性硅化物滲層。采用1250℃恒溫氧化實驗進行檢測，共滲后試樣經5～200h恒溫氧化后的氧化膜致密，少見脫落，表明本發明所提供的滲層具有優異的高溫抗氧化性能。本發明所制備的滲層均勻、致密，Zr含量可控且與基體結合緊密，同時具有操作方便、成本低廉等一系列優點，適于生產和應用。
- 專利類型發明專利
- 申請人西北工業大學;
- 發明人郭喜平;李軒;喬彥強;
- 地址710072 陜西省西安市友誼西路127號
- 申請號CN201410497699.7
- 申請時間2014年09月25日
- 申請公布號CN104313541B
- 申請公布時間2016年08月24日
- 分類號C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C10/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;
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