摘要：本實用新型涉及磁控濺射鍍膜儀，包括機架、真空室，真空室包括上蓋部件、下蓋部件、連接在上蓋部件與下蓋部件之間的石英玻璃罩，真空室內頂部設置有磁控靶頭、真空室外頂部設置有與磁控靶頭連接的高壓連接器，機架上固定有用于控制高壓連接器的PLC控制器，機架上設置有通過進氣管與真空室相連通的進氣口，機架上還設置有與真空室相連通的出氣口，機架內設置有磁控電源，磁控靶頭密封螺紋連接地固定在上蓋部件底面上，真空室內底部對應磁控靶頭下方的位置處固定有調節高度的濺射靶臺。本實用新型提供的鍍膜儀，降低儀器整體占用空間，真空室內的氣密性好，濺射靶臺設計成可調節使用高度的形式，提高了適用性和靈活性。
- 專利類型實用新型
- 申請人合肥科晶材料技術有限公司;
- 發明人邾根祥;方輝;江曉平;朱沫浥;王衛;
- 地址230031 安徽省合肥市長江西路669號華源實業園
- 申請號CN201620521608.3
- 申請時間2016年06月01日
- 申請公布號CN205821445U
- 申請公布時間2016年12月21日
- 分類號C23C14/35(2006.01)I;
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