摘要：一種超精掃描鍍膜及定位光刻設備，屬于高精度自動化刻蝕設備技術領域，其包括減振平臺、高精運動平臺、化學涂膠或光刻處理盒、冷卻設備及空壓過濾設備集成體和CNC數控裝置。減振平臺消除了設備固有的振動頻率并隔絕環境的影響；高精運動平臺采用大推力直線電機驅動，直線電機的高精連續掃描運動和超精定位運動，為化學涂膠或光刻處理盒的均勻掃描鍍膜和超精定位光刻提供支持；CNC數控裝置具備數字電流伺服控制功能，實現高精運動平臺與化學涂膠或光刻處理盒在同一時鐘信號下工作。該設備兼具鍍膜和光刻功能，提高了大面積光柵制造的生產效率，降低了光柵制造設備的成本。
- 專利類型發明專利
- 申請人嘉興華嶺機電設備有限公司;
- 發明人伍鵬;
- 地址314006 浙江省嘉興市凌公塘路3339號6號樓1樓
- 申請號CN201310697462.9
- 申請時間2013年12月17日
- 申請公布號CN103698984B
- 申請公布時間2017年01月04日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;
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