摘要：本發明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統，通過其獲得具有穩定溫度的浸液，以用于浸沒式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統包括：用于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過管路進口進入該浸液管路，溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出；用于對所述浸液進行冷卻的工藝冷卻液回路，工藝冷卻液在該回路中循環流動；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝冷卻液回路同時流經該熱交換器（6），利用該熱交換器（6）完成工藝冷卻液和浸液的熱交換，獲得具有穩定溫度的浸液，實現對浸液的溫度控制。本發明的裝置采用內部回流結構與熱交換器相結合實現對浸液溫度的控制，可以實現浸沒光刻中對浸液穩定的精確穩定的控制，提供溫控效率。
- 專利類型發明專利
- 申請人華中科技大學;
- 發明人李小平;石文中;湯中原;何俊偉;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號
- 申請號CN201310079232.6
- 申請時間2013年03月13日
- 申請公布號CN103176370B
- 申請公布時間2015年04月15日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;G05D23/20(2006.01)I;
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