摘要：本發明公開了一種工作臺自適應調平裝置，包括繞動機構和彈性機構，所述繞動機構包括調平板，所述彈性機構包括彈性支座、彈性機構轉軸、多個彈性機構彈性部件，所述多個彈性機構部件分別設置于所述彈性支座的不同受力位置，所述調平板在受力的狀態下對所述彈性支座上對應的某受力位置的彈性機構彈性部件施加壓力，所述彈性支座上的所述某受力位置以外的受力位置可繞所述彈性機構轉軸朝所述調平板轉動，并通過對應的彈性機構彈性部件對所述調平板施加彈力。本發明其體積小，質量輕，結構穩定可靠，涉及接觸式光刻機設備技術領域，對手動對準定位及自動對準定位均適用。
- 專利類型發明專利
- 申請人深圳市矽電半導體設備有限公司;
- 發明人韋日文;王勝利;胡泓;
- 地址518000 廣東省深圳市龍崗區龍城街道中心城龍城工業園路3號特發龍飛E棟創業大廈二樓
- 申請號CN201610378576.0
- 申請時間2016年05月31日
- 申請公布號CN106066580A
- 申請公布時間2016年11月02日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;
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