摘要：本發明公開了一種精確控制浸沒式光刻機浸液溫度的裝置，包括增壓泵；初級熱交換器，其浸液入口與增壓泵出口連通，浸液在其中進行熱交換，實現浸液溫度的初級調控；次級熱交換器，其浸液入口與初級熱交換器浸液出口連通，浸液在其中進行再次熱交換，實現浸液溫度的次級調控；流量伺服閥，其入口與初級熱交換器浸液出口連通，與次級熱交換器形成并聯，用于調節進入次級熱交換器的浸液流量。通過協調控制進入初級熱交換器和次級熱交換器的冷媒流量，并結合流量伺服閥對進入次級熱交換器的浸液流量的調節，可實現對浸液溫度的兩級調控，從而獲得溫度穩定且精確的浸液以用于浸沒式光刻工藝。
- 專利類型發明專利
- 申請人華中科技大學;
- 發明人李小平;紀輝強;石文中;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號
- 申請號CN201410199568.0
- 申請時間2014年05月12日
- 申請公布號CN103969965B
- 申請公布時間2015年11月18日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;G05D23/30(2006.01)I;
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
