摘要：本發明公開一種提高芯片亮度的方法，該方法使用清洗溶液去除激光劃片后產生的灰塵。清洗溶液組成成分為強堿、醇和蒸餾水。其中強堿可以為氫氧化鉀，醇可以為乙醇。清洗溶液中的成分比例可以根據實際需要的效果進行改變。提高芯片亮度的方法的具體步驟為：首先使用無塵布蘸取清洗溶液，擦拭芯片背面后，使用純水對芯片進行進一步的潔凈，去除多余的離子。本發明所對應溶液的方法主要應用于紫外激光劃片后灰塵的去除。本發明的優點在于：對于芯片的去除效果相對于直接利用無塵布擦拭的工藝好。成本低廉，本發明對應的方法還可以降低芯片倒膜過程中掉晶的風險和提高芯片封裝后固晶的強度。
- 專利類型發明專利
- 申請人華燦光電股份有限公司;
- 發明人宋超;劉榕;張建寶;
- 地址430223 湖北省武漢市東湖新技術開發區濱湖路8號
- 申請號CN201210122450.9
- 申請時間2012年04月25日
- 申請公布號CN102626699A
- 申請公布時間2012年08月08日
- 分類號B08B3/08(2006.01)I;
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
