摘要：一種小型磁控濺射鍍鏌機，涉及一種鍍鏌機，所述鍍鏌機包括上開蓋結構的圓柱型真空室、加熱旋轉樣品臺、磁力耦合器、磁控濺射靶、渦輪分子泵、擋板閥、隔膜泵、全量程規、冷卻水循環系統、機箱；圓柱型真空室上部安有一個上蓋，上蓋由兩根氣壓桿支撐，由旋紐鎖緊，兩只磁控靶傾斜安裝，其中心延長線正對加熱旋轉樣品臺的中心；加熱旋轉樣品臺位于圓柱型真空室的底部，安裝于磁力耦合器之上；擋板閥上面設有全量程規，并且連接在渦輪分子泵之上。本實用新型采用PLC+觸摸屏控制，具有操作維護簡單、裝樣、取樣方便、組合靈活，體積小巧，所以搬運、安裝方便，特別適合于學院教學、科研使用。
- 專利類型實用新型
- 申請人沈陽科晶自動化設備有限公司;
- 發明人李雙江;張旭;趙闖;
- 地址110171 遼寧省沈陽市渾南新區學風路26-2-7號5門
- 申請號CN201620962923.X
- 申請時間2016年08月29日
- 申請公布號CN206069996U
- 申請公布時間2017年04月05日
- 分類號C23C14/35(2006.01)I;
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