摘要：本發明提供了一種太陽能電池鈍化層分層鍍膜方法和裝置，在太陽能電池生產工藝中引入原子層沉積設備(ALD)，使用ALD和PECVD以達到分層鍍膜的裝置和方法。沉積氧化鋁膜的電池片其開路電壓、轉換效率、填充因子等參數較正常生產電池片基本沒有變化，沉積了氧化鋁膜的電池片的短路電流平均值均比正常工藝生產的電池片的短路電流平均值高。
- 專利類型發明專利
- 申請人無錫邁納德微納技術有限公司;
- 發明人左雪芹;梅永豐;王永文;
- 地址214028 江蘇省無錫市新區經一路8號209室
- 申請號CN201110419376.2
- 申請時間2011年12月14日
- 申請公布號CN102420272B
- 申請公布時間2013年11月06日
- 分類號H01L31/18(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;
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