摘要：本實用新型公開了一種直寫式光刻裝置，包括底座、平行設置于底座上的兩個支架，設置在一個支架上的對準系統，以及設置在另一個支架上的曝光系統，底座上平面位于對準系統與曝光系統的下方還設置有至少包括兩個掃描臺的掃描系統，所述掃描臺的上端分別設置有一水平的載物臺面，本實用新型通過增加一個掃描臺，可以縮短曝光系統等待上料、對準和下料的時間，同時縮短對準系統等待上料、曝光和下料的時間，簡言之，提高了對準系統和曝光系統的使用率。
- 專利類型實用新型
- 申請人蘇州微影光電科技有限公司;
- 發明人吳斌;朱亮;王友車;薛業保;張國龍;
- 地址215636 江蘇省蘇州市張家港市大新鎮海壩路蘇州微影光電科技有限公司
- 申請號CN201520022610.1
- 申請時間2015年01月13日
- 申請公布號CN204347441U
- 申請公布時間2015年05月20日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;
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