摘要：本發明公開了一種用于浸沒式光刻機的氣密封及水平和垂直注液回收裝置。在浸沒式光刻機中的投影物鏡組和硅片之間置有本發明裝置；包括浸沒單元下端蓋、浸沒單元基體、垂直注液孔板、焊接蓋板和注氣蓋板，浸沒單元下端蓋、垂直注液孔板及注氣蓋板安裝在浸沒單元基體下表面，浸沒單元基體上表面開有氣和液的流道，流道通過焊接蓋板密封覆蓋。本發明能滿足浸沒式光刻系統中縫隙流場的密封、液體的注入回收、核心流場的流速均一以及縫隙流場穩定更新的要求；采用氣密封結構和垂直注液回收結構實現縫隙流場的密封，采用特殊的水平注液及回收結構保證了核心流場的流速均一性要求并降低水平回收由于氣液兩相流產生的振動和噪聲。
- 專利類型發明專利
- 申請人浙江大學;
- 發明人傅新;簡勇華;陳文昱;徐寧;徐文蘋;
- 地址310027 浙江省杭州市西湖區浙大路38號
- 申請號CN201510479159.0
- 申請時間2015年08月03日
- 申請公布號CN105045046B
- 申請公布時間2017年03月29日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;
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