摘要：一種多腔室CVD處理系統，包括多個基片載體，其中，每個基片載體用于支承至少一個基片。多個外殼每個構造成用以形成沉積腔室，該沉積腔室包圍多個基片載體中的一個基片載體，以保持用來執行處理步驟的獨立化學沉積過程化學性質。運輸機構按離散步驟將多個基片載體中的每一個基片載體運輸到多個外殼中的每一個外殼，這允許在多個外殼中在預設定時間內執行處理步驟。在一些實施例中，基片載體可以是可轉動的。
- 專利類型PCT發明
- 申請人維易科精密儀器國際貿易(上海)有限公司;
- 發明人A·帕蘭杰佩;E·A·阿莫爾;W·E·奎恩;
- 地址美國紐約
- 申請號CN201280035420.2
- 申請時間2012年07月02日
- 申請公布號CN103703544A
- 申請公布時間2014年04月02日
- 分類號H01L21/205(2006.01)I;
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