摘要：本發明涉及一種半導體工藝熱處理設備溫度控制系統及方法，該系統包括：感溫單元，用于測量熱處理設備的實時溫度并輸出；溫度信號處理單元，根據工藝參數和實時溫度，生成溫度控制參數；其中，溫度控制參數包括熱處理設備升溫階段和恒溫階段的切換指令；功率輸出單元，包括第一功率模塊和第二功率模塊，分別用于向熱處理設備輸出第一范圍值電功率和第二范圍值電功率；功率控制單元，生成功率控制參數，以選擇在熱處理設備升溫階段向第一功率模塊輸出功率控制參數，或在熱處理設備恒溫階段向第二功率模塊輸出功率控制參數。通過將加熱過程分階段進行，本發明可縮短工藝時間、降低能耗、提高產能，使整個工藝得到最佳程度的優化。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人張乾;王艾;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
- 申請號CN201310629884.2
- 申請時間2013年11月29日
- 申請公布號CN103677015A
- 申請公布時間2014年03月26日
- 分類號G05D23/30(2006.01)I;
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