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          半導體熱處理設備的溫控方法

            摘要:本發明涉及一種半導體熱處理設備的溫控方法,半導體熱處理設備包括爐體和設于爐體中的工藝管,晶圓在工藝管中進行半導體工藝,爐體包括多個溫區,每一溫區中設有至少一超溫熱偶和多個控溫熱偶,超溫熱偶用于感測溫區中的溫度,控溫熱偶用于調節溫區中的溫度,方法包括如下步驟:a)、對超溫熱偶與控溫熱偶的報警信號進行加權評分;b)、若評分不低于第一閾值,則停止向半導體熱處理設備輸出電功率。該方法增加了實施停止加熱措施時的可信度,還可通過對主、輔控溫熱偶的調整,有針對性地采用不同的控溫模式,更好地保證設備的可靠穩定運行。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人張乾;王艾;
          • 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
          • 申請號CN201310688368.7
          • 申請時間2013年12月16日
          • 申請公布號CN103677009B
          • 申請公布時間2016年06月01日
          • 分類號G05D23/22(2006.01)I;
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