摘要：本發明公開了一種化學氣相沉積固態前驅體連續供給系統，由真空室、真空機組、化學尾氣吸附器、化學尾氣處理器組成；真空隔離室位于真空室的上部,坩堝與發熱體嵌入在真空室內,真空室外壁有進氣口與可控固態前驅體揮發裝置相連通，真空室下端有抽真空口與化學尾氣吸附器連通,化學尾氣吸附器通過真空機組和化學尾氣處理器連通。該系統可實現固態前驅體的持續供給，通過伺服機構調整裝料在爐中的位置達到精確控制固態前驅體揮發溫度，進而精確控制前驅體流量；供給系統結構簡單，易與常用的化學氣相沉積設備兼容；有效地提高了固態前驅體在化學氣相沉積過程中的可控揮發性、連續性和均一性，保證實現難熔金屬碳化物涂層或基體的沉積。
- 專利類型發明專利
- 申請人西北工業大學;
- 發明人成來飛;王一光;張立同;劉小瀛;涂建勇;朱艷;
- 地址710072 陜西省西安市友誼西路127號646信箱
- 申請號CN201310000063.2
- 申請時間2013年01月04日
- 申請公布號CN103122457B
- 申請公布時間2015年04月29日
- 分類號C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
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