摘要：本發明公開了一種基于空間隔離的納米顆粒原子層沉積裝置及方法，本發明使待包覆的納米顆粒隨氣流通過分布有多個電極的管路，顆粒經過電極時由于尖端放電作用帶上同種電荷，從而使納米顆粒間相互排斥，防止團聚，達到分散顆粒的目的，然后通過清洗區域或前驅體反應區域，實現納米顆粒的均勻包覆。本發明采用空間隔離的原理，使原子層沉積不同過程互不影響，能實現常壓下納米顆粒的快速均勻包覆，提高了沉積薄膜的包覆率、均勻性以及粉體表面包覆的效率。
- 專利類型發明專利
- 申請人華中科技大學;
- 發明人陳蓉;巴偉明;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號
- 申請號CN201610371245.4
- 申請時間2016年05月30日
- 申請公布號CN106048559A
- 申請公布時間2016年10月26日
- 分類號C23C16/455(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I;
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