摘要：一種折射率可控的多孔性二氧化硅減反膜的制備方法，采用先堿催化后酸催化的方法制備涂膜液，適用于浸涂法、或噴涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜層，高溫熱處理后得到多孔性二氧化硅膜層。本發明制備的膜層具有高硬度、高化學穩定性、自潔性好和寬帶減反的特點。
- 專利類型發明專利
- 申請人中國科學院上海光學精密機械研究所;上海大恒光學精密機械有限公司;
- 發明人唐永興;熊懷;李海元;陳知亞;
- 地址201800 上海市800-211郵政信箱
- 申請號CN200910048696.4
- 申請時間2009年04月01日
- 申請公布號CN101531468B
- 申請公布時間2011年05月25日
- 分類號C03C17/23(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;
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