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          一種介孔SiO2薄膜的制備方法及其產品和應用

            摘要:本發明涉及一種介孔SiO2薄膜的制備方法,包括如下的步驟:1)將正硅酸四乙酯溶于乙醇,滴加稀鹽酸,混合攪拌;所述的正硅酸四乙酯與稀鹽酸的摩爾比為1:1×10?5~8×10?5;2)向步驟1)得到的混合液中繼續滴加稀鹽酸,攪拌陳化,得到溶液A;所述的繼續滴加的稀鹽酸與正硅酸四乙酯的摩爾比為0.02~0.06:1;3)十六烷基三甲基溴化銨溶于乙醇,得到溶液B;4)將溶液B加入到溶液A中,攪拌并陳化0.5~2小時,得到產品;5)采用旋涂法在基板上鍍膜,然后熱處理,獲得介孔SiO2薄膜;本發明還涉及介孔SiO2薄膜及其應用。本發明簡化了介孔SiO2薄膜的合成方法,在常溫下制備溶膠并進行鍍膜,經過熱處理后得到具有增透效果的孔道有序排列的介孔膜。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人浙江大學;
          • 發明人趙高凌;張馨文;占豐;詹凌曈;孟偉杰;韓高榮;
          • 地址310027 浙江省杭州市西湖區浙大路38號
          • 申請號CN201610368262.2
          • 申請時間2016年05月27日
          • 申請公布號CN106045330A
          • 申請公布時間2016年10月26日
          • 分類號C03C17/23(2006.01)I;
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