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          多孔納米二氧化硅減反射膜的制備方法

            摘要:本發明公開了一種多孔納米二氧化硅減反射膜的制備方法,其包括拋光、裂紋和造孔。本發明的方法利用氟硅酸的二氧化硅飽和溶液對玻璃表面進行選擇性浸蝕,將玻璃表面反射率較高的氧化鈣、氧化鈉以及金屬氧化物進行有選擇的浸蝕,在玻璃表面形成一層多孔納米二氧化硅減反射膜,從而達到降低玻璃反射率提高玻璃透過率的目的。由該工藝生產的玻璃透過率可提高2~5%,具有明顯的增透效果,另外該工藝生產的玻璃透具有顯著的防眩作用,能夠對人眼起到很好的保護。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人北京市太陽能研究所有限公司;
          • 發明人謝光明;張英超;王啟;
          • 地址100191 北京市海淀區花園路3號
          • 申請號CN201110059381.7
          • 申請時間2011年03月11日
          • 申請公布號CN102674704B
          • 申請公布時間2014年07月09日
          • 分類號C03C17/23(2006.01)I;
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