摘要：本發明提供一種二氧化硅減反射膜的制備方法，包括步驟：1)用提拉鍍膜的方法將硅酸鹽溶液鍍在玻璃表面；2）鍍膜后的玻璃在100-120℃下烘烤20-30min；3）浸蝕：烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蝕；4）燒結：硫酸浸蝕后的玻璃在200-500℃下燒結。本發明提出的方法所制備的覆有二氧化硅減反射膜的玻璃，其透過率在原有基礎上提高了4~5%。制備的減反射硼硅玻璃在250~2500nm范圍內均具有顯著的增透效果，玻璃透過率由91.4%提高到96.1%，整體提高了4.7%，具有優異的減反射效果。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京市太陽能研究所集團有限公司;
- 發明人王啟;謝光明;張英超;
- 地址100191 北京市海淀區花園路3號
- 申請號CN201210328686.8
- 申請時間2012年09月06日
- 申請公布號CN102838287A
- 申請公布時間2012年12月26日
- 分類號C03C17/23(2006.01)I;
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