摘要：一種0°入射起偏薄膜的制備方法，該方法是采用(HL)mH膜系利用鍍制膜層的沉積角度θ1、θ2不同而鍍制出高折射率膜層和低折射率膜層交替變化的雙折射薄膜，實現0°起偏，其中H和L分別表示λ/4光學厚度的高折射率層和低折射率層，m為周期數。本發明具有薄膜結構簡單、膜厚小、制備過程簡單和操作方便的特點。
- 專利類型發明專利
- 申請人中國科學院上海光學精密機械研究所;上海大恒光學精密機械有限公司;
- 發明人王晴云;齊紅基;肖秀娣;賀洪波;易葵;范正修;
- 地址201800上海市800-211郵政信箱
- 申請號CN200810204860.1
- 申請時間2008年12月30日
- 申請公布號CN101464536A
- 申請公布時間2009年06月24日
- 分類號G02B5/30(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;
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