近年來，非晶態In-Ga-Zn-O(a-IGZO)材料。主要用作背板的通道材料。平板顯示器(FPD)的TFT由于其優越性. 具有均勻性好、通斷電流大等特點;與其他無定形氧化物相比，具有更高的載流子遷移率.
研發IGZO工藝用高生產率配置ALD系統，該系統采用獨創技術，將多元系氧化物IGZO的組成比控制在個別應用領域元件所需的精確組合比。特別是 GD Series的應用，可在多個大面積基板上沉積ALD，有望在目前迅速應用IGZO薄膜的LTPO TFT s元件中提供卓越的質量競爭力和高生產率.
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