HPR100 ICP－等離子體工作站

    Hiden HPR 100 ICP等離子體工作站（ICP plasma workstation with EQP ion mass / energy analyser），完整的RF-ICP 反應器/ 等離子體分析系統，可研究全部的等離子體過程，對射頻等離子體過程中的所有種類進行組合式的質量/能量分析。

應用：

    · 等離子體/ 反應性離子蝕刻研究
    · CVD / PVD / MOCVD
    · 表面修飾
    · 真空/等離子體過程
    · 等離子體清潔 / 殺菌
    · 薄膜制造/修改
    · 合成物制造/修飾

特點：
 
    · 圓柱形石英腔，直徑100mm
    · 4 轉動方向的銅感應卷，及相應線圈冷卻設備和100mm線圈調節器。
    · 13.56MHz RF 發生器， 200W 電源
    · RF防護(440 x 340 x 340 mm).
    · 空氣冷卻，手動或自動雙路流量控制
    · 一對渦輪分子泵管路以進行差動操作
    · 電容壓力計，室壓顯示
    · Hiden EQP 500 等離子體分析儀，帶有 100mm Z驅動
    · 質量/能量分析儀，可分析陰陽離子，中性粒子和自由基團
    · MASsoft軟件操作