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HPR80 活潑性、 腐蝕性氣體分析儀
簡介:HPR80活潑性、腐蝕性氣體分析儀HPR-80(QuantitativeGasAnalyserforReactive/CorrosiveSpecies)是專為活潑性、腐蝕性氣體分析和半導體、真空過程研究而設計的儀器,快速、定量分析活潑性、腐蝕性氣體混合物。應用:等離子體/反應性離子蝕刻研究CVD/PVD/MOCVD半導體晶片加工研究真空...
¥0HMT100 高壓殘余氣體分析儀
簡介:HMT100-RC高壓殘余氣體分析儀(HighPressureResidualGasAnalyser)配備了精密的四極質譜儀,獨特的雙重模式RGA系統,檢測已有的或生產過程中形成的氣體。針對真空診斷以及過程監測。應用:殘余氣體或泄漏檢測實質泄漏或脫附分析除氣研究烘烤周期泵效能腔室/過程氣體污染物特點:HMT型...
¥0超高真空TPD分析系統 UHV TPD ANALYSIS SYSTEM
簡介:超高真空TPD分析系統UHVTPDANALYSISSYSTEMTheUHVTPDworkstationisafullyservicedUHVchamberwithsampleheatingstage,3F/PICquadrupolemassspectrometerandTPDanalysissoftware.HidenTDSWorkstation.Includes:HidenHAL/3FRC3
¥0HAL RGA四級質譜儀
簡介:殘余氣體分析儀ResidualGasAnalysers儀器介紹HidenRGA系列殘余氣體分析四極質譜儀(ResidualGasAnalysers),檢測容器中的存在組分,或進行過程中產生氣體的分析。針對真空診斷的精確分析。殘余氣體或泄漏檢測實際泄漏或脫附分析除氣研究烘烤周期泵效能腔室/過程氣體污染物主要特點靈...
¥0真空工藝過程氣體分析儀
簡介:真空工藝過程氣體分析儀ProcessGasAnalyser技術參數HPR-30真空過程氣體分析系統(ProcessGasAnalyser),適用于監測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。應用:CVD/PECVD/RIE/LPCVD/MOCVD真空涂覆/等離子刻蝕沉積濺射污染物研究基本壓力辨別泄漏探測/實質泄漏/脫附分析除...
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