XBS MBE 沉積速率監控/控制系統
Hiden XBS三級濾過四極質譜(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System)，適于精確的MBE分析，其他氣體分析和科學實驗使用。
應用：
· MBE 監測和控制
· 分子束研究
· 多束源分析
· 高性能殘余氣體研究
· 脫附 / 除氣研究/烘烤周期
· 容器、過程氣體污染物分析
特點：
· 靈敏度高, 檢測范圍從 至5ppb,質量數范圍至510amu
· 長期穩定性(24h以上，峰高變化小于±0.5%)
· 交叉離子源,束接收角同軸的橫斷面呈 ±35°
· 離子源控制，用于軟離子化和表觀電勢質譜
· 靈敏度增強用于大質量數的傳輸，自動質量數范圍列表
· 2mm 束接受孔， 也可為特殊使用者配置
· 一級過濾處增加射頻，抗污染物能力增強
· 內置UHV 兼容的水冷卻罩
· 分子束研究中，檢測極限低至30 ions/s
· 監測生長速率1Å / min，或更低
· Windows™ 界面的MASsoft軟件通過RS232、RS485 或以太網控制
