摘要：本實用新型公開了一種等位近距離薄膜沉積生長系統，它包括箱體，箱體上設有爐體，爐體兩端設有支撐桿，爐體的下端設有下法蘭，下法蘭上端通過下加熱臺支撐架固定連接有下加熱臺，下加熱臺上設有載物臺，爐體的上端設有上外接法蘭，上外接法蘭下端通過上加熱臺支撐架固定連接有上加熱臺，所述的支撐桿上設有旋轉支撐架，該旋轉支撐架包括轉動連接在支撐桿上的固定座和固定螺栓，該固定座和固定螺栓之間垂直設有導向桿，導向桿上滑動連接一升降桿，升降桿與上外接法蘭固定連接；本實用新型一種等位近距離薄膜沉積生長系統，它結構簡單，操作便捷，可以實現等位沉積，準確控制基片正反面溫場，解決了分子漂移擴散損耗問題，和長距離的溫度線性不穩定等問題，同時可以實現快速升降溫，節約了工時功效。
- 專利類型實用新型
- 申請人安徽貝意克設備技術有限公司;
- 發明人孔令杰;
- 地址230041 安徽省合肥市廬陽區濉溪路312號
- 申請號CN201320213916.6
- 申請時間2013年04月25日
- 申請公布號CN203373416U
- 申請公布時間2014年01月01日
- 分類號C23C14/24(2006.01)I;
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