摘要：本發明公開了一種真空爐，包括真空腔室，其底部設置凹槽型水冷套，凹槽型水冷套的凹槽底部有放置工件的載物臺，所述凹槽型水冷套的凹槽側壁和凹槽底部依次排列的加熱組件對該工件進行加熱；所述凹槽型水冷套用于冷卻所述加熱組件；為了冷卻工件，在凹槽內還設置有環繞工件的環形制冷部件，其上設置有多個排氣孔。本發明通過所述第一氣體冷卻裝置經由所述管道向所述環形制冷部件通入第一冷卻氣體，并通過所述排氣孔排出以冷卻所述工件，由于輸入到工件處的氣體是冷卻后的氣體，因此比直接輸出氮氣的冷卻時間短，冷卻效率要高。
- 專利類型發明專利
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發明人向勇;傅紹英;楊小軍;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業港（雙流園區）東海路六段680號
- 申請號CN201610377867.8
- 申請時間2016年05月31日
- 申請公布號CN106017071A
- 申請公布時間2016年10月12日
- 分類號F27B5/05(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27D9/00(2006.01)I;
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