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          一種在粒度分析儀中降低隨機系統噪聲的方法及裝置

            摘要:本發明公開了一種在粒度分析儀中降低隨機系統噪聲的方法,包括如下步驟:S11、獲取引入系統噪聲的光源功率譜密度分布;S22、基于所獲取的光源功率譜密度分布,設置插值點頻率及每一插值點頻率所對應的幅值權重;S13、設置仿真參數,對每一插值點頻率分別計算所對應的MIE矩陣,并將所獲得的每一MIE矩陣疊加形成總的MIE矩陣,以用于和實測的光信號陣列進行擬合。還公開了一種在粒度分析儀中降低隨機系統噪聲的裝置。將系統噪聲考慮進入仿真模型的算法處理和數值計算過程中,可進一步提升來自粉末樣品散射光的空間分辨率和靈敏度,降低系統噪聲,據此拓展激光粒度儀測量系統的測量范圍和精度,以進一步滿足客戶對實驗或生產過程質量控制的需求。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人珠海歐美克儀器有限公司;
          • 發明人王鑫;蔡斌;
          • 地址519085 廣東省珠海市高新區唐家灣鎮科技三路33號廠房第二層
          • 申請號CN201610015492.0
          • 申請時間2016年01月08日
          • 申請公布號CN105675455A
          • 申請公布時間2016年06月15日
          • 分類號G01N15/02(2006.01)I;
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