摘要：本實用新型涉及半導體集成電路器件技術領域，公開了一種硅片清洗裝置包括：噴液管、噴氣管、驅動裝置及旋轉體；待清洗的硅片固定設置于所述旋轉體上，所述驅動裝置驅動所述旋轉體沿其軸向轉動，所述噴液管的一端設置有噴液口，所述噴液口對應于所述旋轉體設置，所述驅動裝置驅動所述噴液管沿所述旋轉體的軸向轉動，所述噴氣管的一端對應于所述噴液口設置有第一出氣孔。本實用新型提供的硅片清洗裝置對應噴液口引入保護氣體，使藥液在工藝過程中盡可能少的接觸空氣，提升了清洗效果。具有結構簡單及穩定性強廣的優點。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人趙曾男;李偉;劉效巖;
- 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請號CN201420870668.7
- 申請時間2014年12月31日
- 申請公布號CN204523685U
- 申請公布時間2015年08月05日
- 分類號B08B7/04(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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